Caractéristiques et domaines d'application des capteurs de pression à diffusion en silicium

Lecapteur de pression diffusé en siliciumutilise le principe de l'effet piézorésistif et adopte une technologie de processus intégrée pour doper et diffuser le long de la direction cristalline caractéristique de la plaquette de silicium monocristallin afin de créer une résistance de contrainte pour former un pont de Wheatstone. En utilisant les propriétés mécaniques élastiques des matériaux de silicium et en effectuant un micro-usinage anisotrope sur le même matériau de silicium coupé, un capteur de silicium diffusé intégrant une sensibilité de force et une détection de conversion force-électrique est réalisé. La pression du capteur de pression diffusé en silicium agit directement sur le diaphragme du capteur, qui est généralement en acier inoxydable ou en céramique, provoquant un déplacement proportionnel à la pression moyenne du diaphragme, et la valeur de résistance du capteur change, et le circuit électronique détecte ce changement et convertit le signal de sortie correspondant à cette pression. Il présente de nombreuses caractéristiques et avantages évidents.

① Apparence et structure diversifiées.

② Forte anti-interférence.

③ Adoptant une structure de diaphragme d'isolation en acier inoxydable 316L, la résistance à la corrosion est bien meilleure que celle de l'acier inoxydable 301.

④ Micro amplificateur, sortie de signal de courant.

⑤ Haute précision, après plusieurs soudages en acier inoxydable, une conception entièrement solide est obtenue, qui peut être utilisée pendant une longue période dans des environnements difficiles.

⑥ Terminaux de haute qualité avec une bonne stabilité à long terme.

⑦ En utilisant un noyau de silicium diffusé importé, la mesure est plus précise.

Le champ d'application decapteur de pression diffusé en siliciumest très large, allant de l'industrie aux domaines de la recherche professionnelle. Les applications courantes incluent les équipements expérimentaux tels que l'aviation et l'aérospatiale ; plates-formes de plongée, de construction navale et de forage ; industries pétrolières, chimiques et métallurgiques ; thermoélectrique, métallurgie, machines, industrie légère ; les domaines de l'énergie propre, du traitement de l'eau et de l'automatisation des bâtiments ; instituts de recherche scientifique, étalonnage de pression en laboratoire, etc. Cependant, en raison des caractéristiques du capteur de silicium diffusé lui-même, il ne peut pas être utilisé pour la mesure de milieux à haute et basse température.